CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。

設備主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規(guī)管，進氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。

設計特色

1. 設備主機采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測。其數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺。

2. 真空室采用下置靶設計，樣品臺具有加熱和旋轉但是功能，可以使鍍膜效果更加均勻。

3. 設備真空獲得系統(tǒng)采用兩級真空泵組，前級泵為大抽速機械泵，有效縮從常壓至低真空的時間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

4. 真空腔體采用304不銹鋼制成，配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細，真空性能優(yōu)異。

5. 主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優(yōu)良，能有效保證鍍膜質量。

技術參數：

磁控濺射頭	數量	2英寸 x2
	冷卻方式	水冷
蒸發(fā)系統(tǒng)	蒸發(fā)源	鎢絲籃
	*高溫度	1800℃
真空腔體	腔體尺寸	φ325mm X 600mm
	觀察窗口	φ100mm
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	前開門式
真空系統(tǒng)	機械泵	旋片泵
	抽氣接口	KF16
	抽氣速率	1.1L/s
	分子泵	渦輪分子泵
	抽氣接口	CF150
	抽氣速率	600L/s
	排氣接口	KF40
	真空測量	電阻規(guī)+電離規(guī)
	極限真空	1.3x10-4Pa
	供電電源	AC;220V 50/60Hz
電源配置	直流電源數量	1臺
	輸出功率	≤1500W
	輸出電壓	≤600W
	響應時間	＜5ms
	射頻電源數量	1臺
	輸出功率	≤1500W
	功率穩(wěn)定度	≤5W
	射頻功率	13.56MHz
	射頻穩(wěn)定度	±0.005%
膜厚監(jiān)控系統(tǒng)	膜厚儀測量分辨率	±0.03Hz
	測量精度	±0.5%
	測量上限	50000
	測量速度	100~1000ms
水冷系統(tǒng)	水箱容積	9L
	流量	10L/min
供氣系統(tǒng)	流量計類型	質量流量計
	量程	200sccm
	氣體類型	Ar氣
其他	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機功率	4kw（主機+真空泵）
	整機尺寸	1000x950x1300mm
	整機重量	295kg

樣式一：尺寸150mm，加熱溫度≤500℃ 控溫精度±1℃， 旋轉速度1-20r/min

樣式二：尺寸φ150mm，高度 上下70mm精準可調，旋轉速度1~20rpm，加熱溫度 0~500℃