全自動CVD滑軌爐設(shè)備操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。

適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火，尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗。

項目	明細
供電電壓	AC220V，50Hz
整機功率	5KW
工作溫度	≤1100℃
加熱速率	建議10℃/min
爐管尺寸	O.D.50mm-220mm-220mm（加熱區(qū)）-1200mm管長
控溫精度	0.1℃
溫區(qū)	雙溫區(qū)
混氣系統(tǒng)	4路質(zhì)子流量計：100sccm1個；200sccm1個；500sccm2個
真空泵	雙極旋片真空泵

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