- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品介紹：
該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐。爐管材質(zhì)采用高純氧化鋁,可在高達1 650℃的高溫工作。為了匹配通入氫氣的試驗要求，本管式爐在爐管右端加裝手動點火裝置,能夠確保試驗**;爐管左側有真空計和氣壓表，用以控制爐管內(nèi)部的真空度和氣氛環(huán)境。通過電磁閥和壓力傳感器互鎖及可燃性氣體探測裝置來確保試驗的進一步**。
本套設備還包含一套兩路浮子 流量計，流量計配有不銹鋼針閥和氣壓表，能夠較為精準的混合出符合試驗需求的氣體。一般情況下本套儀器配合雙極旋片式真空泵使用，可達到一般的低真空度實驗環(huán)境。
適用范圍：
廣泛用于材料或化學實驗室在氫氣或者氫氮混合氣狀態(tài)下燒結各種新材料樣品。
技術參數(shù)：
真
空
管
式
爐
Max功率
2.5kw
爐管材質(zhì)
爐管直徑
100mm
爐管長度
1000mm
爐膛長度
440mm
加熱區(qū)長
400mm
恒溫區(qū)長
200mm
工作溫度
0～1650℃
控溫精度
±1℃
控溫模式
30段或50段程序控溫
顯示模式
高亮數(shù)碼管數(shù)字顯示+指針電流表、電壓表
密封方式
304不銹鋼真空法蘭
法蘭接口
1/4英寸卡套接頭、KF16/25/40接頭
可抽真空
4.4E-3Pa
供電電源
AC:220V 50/60Hz
點火裝置
手動點火裝置
供
氣
系
統(tǒng)
產(chǎn)品型號
CY-2F
氣體通道
2通道
測量部件
氣體浮子流量計
測量量程
A通道：0～100ml/min H2氣
備注：如需其它量程或氣體種類，定貨時需要特別注明。
B通道：16～160ml/min N2氣
測量精度
±2.0%
管道耐壓
3MPa
工作壓差
50～300KPa
連接管道
304不銹鋼
控制閥門
304不銹鋼針閥
接口規(guī)格
進氣口和出氣口為1/4英寸卡套接頭
排
氣
系
統(tǒng)
機械泵
旋片泵
抽氣速率
1.1L/S
排氣接口
KF16
真空測量
電阻規(guī)
極限真空
1.0E-1Pa
供電電源
AC:220V 50/60Hz
抽氣接口
KF40
高純氧化鋁
免責聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術參數(shù)等)，僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r，會造成所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯(lián)系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。
